טכנולוגיית סינון UV מהדור הבא: גלו את Sunsafe® Fusion C4 ו-C5

5 צפיות

שילוב של מספר מסנני UV אורגניים בתוך מערכת מיקרוספרות ליפידים מפוזרת מראש, Sunsafe® Fusion C4 ו-C5 מציעים גישה משולבת להגנה רחבת טווח, פיזור יציב ופורמולה נוחה של קרם הגנה.

הגנה יעילה מהשמש תלויה ביותר מ-SPF בלבד. עבור יצרני קרם, השגת הגנה מאוזנת בין UVA ו-UVB חייבת ללכת יד ביד עם יציבות, קלות הטמעה ותחושת עור אלגנטית.

Sunsafe® Fusion C4 ו-C5 משלבים את סדרי העדיפויות הללו בפורמולה באמצעות אנקפסולציה של מיקרוספרות ליפידים. מערכת ההעברה משלבת מספר מסנני UV אורגניים בתוך נשא מפוזר מראש שנועד לתמוך בפיזור אחיד יותר והגנה סינרגטית על פני טווחי UVA ו-UVB.

הגנה משופרת בתכולת מסנן UV זהה

בדיקות השוואתיות הדגימו ביצועי הגנה משופרים בהשוואה למערכות סינון UV חופשיות מקבילות בתכולת סינון UV זהה:

→ Sunsafe® Fusion C4: מקדם הגנה גבוה יותר ב-62% במבחנה ו-PFA גבוה יותר ב-57%.

→ Sunsafe® Fusion C5: מקדם הגנה גבוה יותר ב-59% במבחנה ו-PFA גבוה יותר ב-56%.

תוצאות אלו מדגישות כיצד מערכת ההובלה יכולה לתרום לביצועי ההגנה מבלי להגדיל את תכולת מסנן ה-UV במערכות שנבדקו.

פיזור ויציבות אחסון עקביים

המיקרוספרות הראו התפלגות גודל חלקיקים צר, עם ממוצע Z של 337.4 ננומטר ומדד פולידיספרסיות של 0.033.

לאחר שלושה חודשים תחת תנאי אחסון מרובים, גודל החלקיקים, המראה ותכולת מסנן ה-UV נותרו ללא שינוי משמעותי. יחד עם הפורמט המפוזר מראש, מאפיינים אלה תומכים בפיזור יציב ובשילוב נוח בניסוחים של קרם הגנה.

בחינת מסירה שטחית יותר

מחקר נותב פלואורסצנטי בחן את התפלגות הרודמין B (RhoB), תוך השווה את צורתו החופשית עם RhoB הנישא בתוך Sunsafe® Fusion C4.

לאחר שמונה שעות, RhoB חופשי הגיע לעומק של 413 מיקרומטר, בעוד שהנותב העטוף נותר בתוך שכבת הקרנית והאפידרמיס העליון, והגיע ל-79 מיקרומטר. הממצאים מצביעים על פיזור שטחי יותר של הנותב העטוף בתנאי המחקר.

התנסו בטכנולוגיה ב-in-cosmetics Asia 2026

גלו את Sunsafe® Fusion C4 ו-C5 בדוכן של יוניפרומה וגלו כיצד אנקפסולציה של מיקרוספרות ליפידים יכולה לתמוך בפורמולת קרם ההגנה הבאה שלכם.

נביא אבות טיפוס של קרם הגנה למבקרים כדי שיוכלו לנסות אותם במקום. חוו את תחושת העור האלגנטית שלהם ממקור ראשון ופגשו את הצוות שלנו כדי לדון בצורכי הפורמולה שלכם.

√ 3–5 בנובמבר 2026
√ BITEC, בנגקוק, תאילנד
√ יוניפרומה | ביתן AA50

ראו את הטכנולוגיה. הרגישו את ההבדל.

银蓝微球阳光肖像

 


זמן פרסום: 28 באוקטובר 2026